Lazer Yazıcılar
1980’lerin ortalarında, lazer yazıcılarda bulunan sisteme benzer şekilde, UV ile iyileştirilebilen malzemeleri bir tarama lazerine maruz bırakarak deneyler yapıyordu. Katı polimer modellerinin üretilebileceğini keşfetti.
Bir katmanı bir önceki katmanın üzerine kürleyerek sağlam bir 3D parça üretebildi. Bu, stereolitografi (SL) teknolojisinin başlangıcıydı. Kısa süre sonra 3D Systems şirketi, SL makinelerini ürün geliştirme endüstrisine “hızlı prototipleme” makineleri olarak pazarlamak için kuruldu. O zamandan beri, SL ile ilgili çok çeşitli süreçler ve teknolojiler geliştirilmiştir.
“KDV fotopolimerizasyonu” terimi, SL’yi ve bu ilgili süreçleri kapsayan genel bir terimdir. SL, özellikle makro ölçekli, lazer taramalı tekne fotopolimerizasyonuna atıfta bulunmak için kullanılacaktır; aksi takdirde tekne polimerizasyonu terimi kullanılacak ve VP olarak kısaltılacaktır.
Ticari fotopolimerleri iyileştirmek için gama ışınları, X ışınları, elektron ışınları, UV ve bazı durumlarda görünür ışık dahil olmak üzere çeşitli radyasyon türleri kullanılabilir. VP sistemlerinde en yaygın olarak UV ve görünür ışık radyasyonu kullanılır. Mikroelektronik endüstrisinde, fotomaske malzemeleri genellikle fotopolimerlerdir ve tipik olarak uzak UV ve elektron ışınları kullanılarak ışınlanır. Buna karşılık, diş hekimliği alanı ağırlıklı olarak görünür ışık kullanır.
Bir fıçıda fotopolimerizasyon işlemleri için iki birincil konfigürasyon ve ayrıca araştırmaların ilgisini çeken bir ek konfigürasyon geliştirildi. Bazı mürekkep püskürtmeli baskı işlemlerinde fotopolimerler de kullanılsa da, temel işleme adımları kapsanan baskı işlemlerine daha çok benzediğinden, bu satır bazında işleme yöntemi bu bölümde ele alınmamaktadır.
Bu bölümde tartışılan yapılandırmalar şunları içerir:
• Ticari SL makinelerine özgü vektör taraması veya noktasal yaklaşımlar
• Tek seferde tüm katmanları ışınlayan maske projeksiyonu veya katman bazında yaklaşımlar ve
• Temelde yüksek çözünürlüklü noktadan noktaya yaklaşımlar olan iki fotonlu yaklaşımlar
Bu üç konfigürasyon şematik olarak gösterilmektedir. Vektör taraması ve iki fotonlu yaklaşımlarda, taramalı lazer ışınlarına ihtiyaç duyulurken, maske yansıtma yaklaşımında başka bir cihaz, bu durumda bir Dijital Mikroayna CihazıTM (DMD) tarafından modellenen büyük bir radyasyon ışını kullanılır.
İki foton durumunda, diğer konfigürasyonlar tek bir lazer ve farklı foto başlatıcı kimyaları kullanmasına rağmen, fotopolimerizasyon iki tarama lazer ışınının kesişme noktasında meydana gelir.
Diğer bir ayrım, vektör tarama ve maske projeksiyon yaklaşımlarında yeniden kaplama veya yeni bir reçine katmanı uygulama ihtiyacıdır, oysa iki fotonlu yaklaşımda parça reçine yüzeyinin altında üretilir ve yeniden kaplamayı gereksiz kılar. Yeniden kaplamayı önleyen yaklaşımlar daha hızlı ve daha az karmaşıktır.
Bu bölümde önce fotopolimer malzemeleri tanıtıyoruz, ardından vektör tarama SL makinelerini, teknolojilerini ve süreçlerini sunuyoruz. Maske yansıtma yaklaşımları sunulur ve vektör tarama yaklaşımıyla karşılaştırılır. Ek yapılandırmalar, uygulamalarıyla birlikte bölümün sonunda sunulmaktadır. Her bir yaklaşımın ve teknolojinin avantajları, dezavantajları ve benzersizlikleri vurgulanmıştır.
2.el lazer yazıcı
Lazer yazıcı tonerli mı
En Ucuz Lazer Yazıcı
Samsung Lazer Yazıcı
Lazer Yazıcı Fiyatları
Lazer YAZICI Vatan
Mono Lazer Yazıcı
2. el tonerli yazıcı fiyatları
Kazan Fotopolimerizasyon Malzemeleri
Bu bölümde, fotopolimerizasyon işlemlerinin tüm konfigürasyonlarında ortak olan UV fotopolimerlerinin bazı arka planları sunulacaktır. Reaksiyon hızları ve karakterizasyon yöntemleriyle ilgili iki alt bölüm bu bölümü sonlandırır.
UV ile İyileşen Fotopolimerler
Belirtildiği gibi, fotopolimerler 1960’ların sonunda geliştirildi. Bahsedilen uygulamalara ek olarak mikroelektronik endüstrisinde fotorezist olarak kullanılırlar. Bu uygulamanın epoksi bazlı fotopolimerlerin geliştirilmesinde büyük etkisi olmuştur. Fotodirençler esas olarak tek katmanlı SL’dir, ancak doğruluk ve özellik çözünürlüğü konusunda kritik gereksinimleri vardır.
UV ve elektron ışını en yaygın olmasına rağmen, gama ışınları, X-ışınları, elektron ışınları, UV ve bazı durumlarda görünür ışık dahil olmak üzere ticari fotopolimerleri iyileştirmek için çeşitli radyasyon türleri kullanılabilir.
AM’de, bu radyasyon kaynaklarının birçoğu araştırmalarda kullanılmıştır, ancak ticari sistemlerde sadece UV ve görünür ışık sistemleri kullanılmaktadır. Örneğin SL sistemlerinde, prensip olarak diğer tipler de kullanılabilmesine rağmen, özellikle UV radyasyonu kullanılır. 3D Systems’den SLA-250’de, 325 nm dalga boyuna sahip bir helyum-kadmiyum (HeCd) lazer kullanılır. Buna karşılık, diğer SL modellerinde kullanılan katı hal lazerleri Nd-YVO4’tür. Maske projeksiyonunda DMD tabanlı sistemlerde UV ve görünür ışık radyasyonu kullanılmaktadır.
Tipik olarak enjeksiyonla kalıplanan termoplastik polimerler, tekrar tekrar erimelerine ve katılaşmalarına izin veren doğrusal veya dallanmış bir moleküler yapıya sahiptir. Buna karşılık, VP fotopolimerleri çapraz bağlıdır ve sonuç olarak erimezler ve çok daha az sürünme ve gerilim gevşemesi sergilerler. Bahsedilen üç polimer yapısını gösterir.
SL reçinelerini tanımlayan ilk ABD patentleri 1989 ve 1990’da yayınlandı. Bu reçineler, yüksek reaktiviteye sahip olan ancak çekme ve kıvrılmanın neden olduğu yanlışlık nedeniyle tipik olarak zayıf parçalar üreten akrilatlardan hazırlandı.
Akrilat bazlı reçineler, görüntü lazer yoluyla aktarıldığında tipik olarak yalnızca %46 oranında kürlenebilir. Açıkta kalan katmana yeni bir kaplama yapıldığında, bir miktar radyasyon yeni kaplamadan geçti ve zaten kısmen kürlenmiş olan katmanda yeni fotokimyasal reaksiyonlar başlattı.
Bu katman, kaplandıktan sonra oksijen inhibisyonuna karşı daha az duyarlıydı. Bu katman üzerindeki ilave çapraz bağlanma, katmandaki gerilmeleri artıran ekstra büzülmeye neden olmuş ve parça imalat sürecinde veya sonrasında gözlemlenen kıvrılmaya neden olmuştur.
SL reçineleri için bir epoksit bileşimi hazırlayan ilk patentler 1988’de ortaya çıktı. Epoksi reçineleri, akrilat reçinelerine göre daha doğru, daha sert ve daha güçlü parçalar üretti. Akrilat bileşimlerin polimerizasyonu %5-20 büzülmeye yol açarken, epoksi bileşimlerin halka açma polimerizasyonu sadece %1-2 büzülmeye yol açar.
Epoksi kimyası ile bağlantılı bu düşük çekme seviyesi, mükemmel yapışmaya ve esnek alt tabakaların sertleşme sırasında kıvrılma eğiliminin azalmasına katkıda bulunur. Ayrıca, epoksi bazlı reçinelerin polimerizasyonu atmosferik oksijen tarafından inhibe edilmez. Bu, akrilik formülasyonlardan daha düşük artık koku veren düşük fotobaşlatıcı konsantrasyonları sağlar.
